用干涉法實現光學合成孔徑技術

分析了傳統(tǒng)干涉成像方式的分辨率受限問題,提出一種干涉條紋場的合成來提高分辨率的方法,并以實驗驗證了上述方法的可行性.

作 者： 彭仁軍 吳健 楊春平 陳長庚   作者單位： 電子科技大學應用物理研究所,成都,610054  刊 名： 光學學報  ISTIC EI PKU 英文刊名： ACTA OPTICA SINICA  年，卷(期)： 2002 22(3)  分類號： O436.1  關鍵詞： 干涉   合成孔徑   錯位  

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